TOSOH TSKgel Ether-5PW 疏(shu)水作(zuo)用色(se)譜(pu)柱
疏(shu)水作(zuo)用色(se)譜(pu)法
在(zai)疏水作(zuo)用色(se)譜(pu)法（HIC）中(zhong)，弱非(fei)極(ji)性(xing)固定(ding)相與(yu)高(gao)濃(nong)度的(de)鹽的水(shui)溶液(ye)同時使用。該方(fang)法主(zhu)要通(tong)過(guo)減少(shao)鹽的濃(nong)度來(lai)分離(li)蛋白(bai)。
在(zai)反(fan)相色(se)譜(pu)中(zhong)，蛋(dan)白(bai)通(tong)過(guo)與(yu)填料上(shang)烷(wan)基或芳(fang)基相互(hu)作(zuo)用保(bao)留(liu)下(xia)來(lai)。

TOSOH TSKgel Ether-5PW 疏(shu)水(shui)作(zuo)用色(se)譜(pu)柱

在(zai)疏(shu)水作(zuo)用色(se)譜(pu)法（HIC）中(zhong)，弱非(fei)極(ji)性(xing)固定(ding)相與(yu)高(gao)濃(nong)度的(de)鹽的水(shui)溶液(ye)同時使用。該方(fang)法主(zhu)要通(tong)過(guo)減少(shao)鹽的濃(nong)度來(lai)分離(li)蛋白(bai)。
在(zai)反(fan)相色(se)譜(pu)中(zhong)，蛋(dan)白(bai)通(tong)過(guo)與(yu)填料上(shang)烷(wan)基或芳(fang)基相互(hu)作(zuo)用保(bao)留(liu)下(xia)來(lai)。

不(bu)同於反(fan)相色(se)譜(pu)，在疏(shu)水反(fan)應(ying)色(se)譜(pu)中(zhong)上(shang)述官(guan)能(neng)團的密度較(jiao)低，且蛋白(bai)分子只(zhi)在壹(yi)個或(huo)少(shao)數(shu)幾(ji)個位置(zhi)上(shang)吸附。
鹽濃(nong)度較(jiao)高(gao)時(shi)會(hui)產生吸(xi)附作(zuo)用，但(dan)若加(jia)入低百(bai)分(fen)比濃(nong)度的(de)有機(ji)溶(rong)劑降(jiang)低鹽濃(nong)度，則(ze)會(hui)產生脫(tuo)附作(zuo)用。
盡管二者(zhe)均以(yi)疏(shu)水(shui)作(zuo)用為(wei)基礎，但(dan)HIC分(fen)離(li)的選擇性(xing)明顯(xian)不(bu)同於反(fan)相LC。
相對於RPC，HIC的(de)/高(gao)容(rong)量(liang)較(jiao)低，但(dan)其優(you)勢在(zai)於：流動相條件（主(zhu)要是含(han)水(shui)流動相）通(tong)常(chang)不(bu)會(hui)破(po)壞(huai)高(gao)階蛋白質(zhi)結(jie)構。

TSKgel HIC 色(se)譜(pu)柱

TSKgel HIC 色(se)譜(pu)柱由三種(zhong)從低(di)到(dao)高(gao)不(bu)同疏水性(xing)的配(pei)體（丁(ding)基(ji)、醚和(he)苯基）鍵合(he)在(zai)聚甲(jia)基丙烯(xi)酸(suan)酯上(shang)的填料組成(cheng)的(de)。
醚柱與(yu)苯(ben)基(ji)柱(zhu)所(suo)用的聚甲(jia)基丙烯(xi)酸(suan)酯基(ji)樹(shu)脂(zhi)是壹(yi)種(zhong)多孔(kong)材料，孔徑大小(xiao)為(wei)1000A，排阻(zu)限為(wei)1,000,000道(dao)爾頓(dun)，能提(ti)供高(gao)載(zai)量(liang)與(yu)高(gao)上(shang)樣量。TSKgel Butyl-NPR具有無孔(kong)基(ji)質(zhi)。在(zai)該基(ji)質(zhi)上(shang)，只(zhi)有顆(ke)粒表(biao)面能(neng)進(jin)行(xing)吸附。較(jiao)短的(de)運行時間和(he)良(liang)好(hao)的回(hui)收率使(shi)丁(ding)基柱(zhu)成(cheng)為(wei)高(gao)通(tong)量(liang)或(huo)QC分(fen)析(xi)的較(jiao)佳選擇。

TSKgel Butyl-NPR訂貨信息(xi)

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色(se)譜(pu)柱類(lei)：POSITISIL色(se)譜(pu)柱、日(ri)本Cosmosil、美(mei)國ZirChrom、日本YMC 、日本島津技(ji)邇(er)（SHIMADZU-GL）、大賽璐（Daicel）、日本(ben)TOSOH、日本(ben)三菱(ling)化學（MITSUBISHI CHEMICAL）、美(mei)國熱電（ThermoFisher）、安捷(jie)倫(lun)（Agilent）、美(mei)國Waters、美(mei)國PolyLC、瑞典(dian)(Kromasil)等(deng)。

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分離(li)純(chun)化填料 ：POSITISIL填料、日本(ben)東曹（TOSOH）、思拓凡(fan)cytiva（原GE公(gong)司(si)）、富士填料（FUJI）、大曹填料(DAISO GEL)，YMC公(gong)司(si)填料，加(jia)拿大Silicycle, 三菱(ling)化學樹(shu)脂(zhi)（MITSUBISHI CHEMICAL），日(ri)本(ben)日本JNC，陶(tao)氏(shi)（羅(luo)門(men)哈(ha)斯）樹(shu)脂(zhi)（Amberlite）、寶恩(en)、天(tian)津(jin)南(nan)開(kai)等(deng)國產樹(shu)脂(zhi)。

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試劑類(lei)：美(mei)國劍橋氘代(dai)試劑、同位素標(biao)準(zhun)品、SIGMA試劑、默克試劑等(deng)。